ポーラスチャック(真空チャック)とは

ポーラスチャックとは薄く平らなものを変形・破損することなく吸着固定する製品です。多孔質体（ポーラス）の吸気孔から空気を引くことで真空吸着し、ワークを固定する仕組みです。

バキュームやマグネット式チャックでは苦手としていた微小・極薄・長大なワークが固定でき、非磁性体にも対応しているため、多様な素材を扱うことができます。

半導体製造工程にいては薄いシリコンウェハー等を平坦保持することで破損することなく切断するために用いられ、フィルムを吸着痕なく吸着できるので測定装置や検査装置にも用いられています。

ポーラスチャックの特徴

• 均一な気孔をもつ多孔質セラミックスプレートを採用
• 耐磨耗性、耐熱性が高く多孔質セラミックス内部からの発塵がない
• 気孔径２μｍで部分吸着性がある
• 薄いガラスやフィルムなどのワークを変形なく均一吸着
• 部分吸着が可能／1枚の吸着盤で済む
• 真空中でもガスが出にくい
• 軽い（比重1.6～1.89）

用途例

被加工物、被計測物などを吸着固定するという特徴を活かし検査装置・測定装置等様々な分野での応用が考えられています。

• 吸着テーブル(ダイシングソー,グラインダ,ポリッシャ,etc.)
• ヒーターテーブル(ボンディングマシン, etc.)
• スピンナーテーブル(ダイシングソー,レジスト塗布装置, etc.)
• フィルム等検査製造用テーブル

平面平滑性および特殊製造手法により優れた吸着特性と高耐久性でウエハーや大型基板、フィルムの全面吸着を必要とする製造工程において高い生産性と信頼性を提供しております。

構造

多孔質セラミックスの構造

ポーラスチャック(真空チャック)の構造

製作例

精密ポーラスチャック・テーブル

中央にθ軸を設ける事により、ワークを回転・吸着固定といった工程が、高精度に行えます。

寸法	1370×850×100
平面度	10μm

円形精密ポーラスチャック

ワークの切断加工を行っても、ワークがずれること無く、吸着固定を持続します。

寸法	φ250×21
平面度	3μm

非接触精密浮上パッド

高精度・非接触で、ガラス基板を搬送できます。

寸法	455×400×51
平面度	5μm
浮上量	30±5μm

ガラス・フィルム吸着プレート

部分吸着性能により、テーブルよりも小さいワークも吸着もできます。
平均気孔径2ミクロンの多孔質の採用で、ワークがフィルムや薄いガラスであっても反り・たわみが発生しません。

石寸法	390×390×40
吸着部寸法	300×300×5